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2023-06-14 发布于四川
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呈现了用于形成量子电路的技术，包括量子电路的组件之间的连接。可以通过去除电介质材料的一部分和层叠在电介质材料顶部上的导电材料(1004)的一部分来在电介质材料(1002)中形成沟槽(1006)，以使得能够创建电路的电路组件(1016，1018)。沟槽可以限定规则凸块或补偿凸块(1012，1014)，以促进创建连接至凸块上的电路组件的电引线(1030，1032)。补偿结块可以包括凹陷区域(1024，1026)，以促进在蒸发期间沉积材料以形成引线。对于补偿凸块的实现方式，可以在两个方向上蒸发材料，其

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113169263 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 201980078862.7 (74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所

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