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本发明公开了一种二甲基锗烷的制备方法及装置,二甲基锗烷的制备方法,包括:步骤S1:分别向密闭反应釜内注入溶剂、二甲基二氯化锗及还原剂,二甲基二氯化锗与还原剂反应生成二甲基锗烷;步骤S2:冷却气态二甲基锗烷及挥发的部分气态溶剂,将冷凝生成的液态溶剂回流至密闭反应釜内;步骤S3:精馏气态二甲基锗烷;步骤S4:吸附气态二甲基锗烷中的杂质;步骤S5:收集二甲基锗烷。本发明中,二甲基二氯化锗与还原剂在密闭反应釜内反应生成二甲基锗烷,经过精馏去除一部分混在二甲基锗烷中的溶剂,再吸附二甲基锗烷中的杂质,最后收
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113135953 A
(43)申请公布日 2021.07.20
(21)申请号 202110490716.4
(22)申请日 2021.05.06
(71)申请人 广东先导微电子科技有限公司
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