使用斜角离子束进行单向孔洞延长的技术与设备.pdfVIP

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2023-06-14 发布于四川
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使用斜角离子束进行单向孔洞延长的技术与设备.pdf

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一种对衬底进行图案化的方法。所述方法可包括在设置在衬底上的层中提供腔，腔沿着第一方向具有第一长度且沿着与第一方向垂直的第二方向具有第一宽度，并且其中层沿着与第一方向及第二方向垂直的第三方向具有第一高度。所述方法可包括：在第一沉积程序中在腔之上沉积牺牲层；以及在第一次曝光中将斜角离子引导到腔，其中腔被刻蚀，并且其中在第一次曝光之后，腔沿着第一方向具有大于第一长度的第二长度，且其中腔沿着第二方向具有不大于第一宽度的第二宽度。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113169046 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 201980077053.4 (74)专利代理机构北京同立钧成知识产权代理