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一种具有透明硅氧化物涂层的高阻隔生物可降解薄膜及其制备方法.pdfVIP

一种具有透明硅氧化物涂层的高阻隔生物可降解薄膜及其制备方法.pdf

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    本发明公开了一种具有透明硅氧化物涂层的高阻隔生物可降解薄膜及其制备方法，本发明通过浸涂的方式将全氢聚硅氮烷溶液涂覆在全生物降解高分子基材表面，室温晾干；通过调节涂覆液浓度，使涂层的厚度在50~600nm之间；将表面涂覆有全氢聚硅氮烷的膜材置于波长185nm的低压汞灯紫外线照射下进行光解氧化，照射距离为10cm，照射时间为0.5h~6h，加热温度为25℃～150℃。使其光解氧化，生成致密的硅氧化合物透明涂层，得到具有高阻隔全降解的透明薄膜。该薄膜可应用于食品、医药品高阻隔包装等行业。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113105663 A (43)申请公布日 2021.07.13 (21)申请号 202110391564.2 C08L 69/00 (2006.01) (22)申请日 2

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