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2023-06-14 发布于四川
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本发明涉及阵列基板及其制备方法和显示装置。所述阵列基板包括基板，基板包括非显示区和显示区；位于非显示区的基板上设置有薄膜晶体管和有机膜层，有机膜层位于薄膜晶体管远离基板的一侧，薄膜晶体管包括栅极、有源层、位于栅极以及有源层之间的栅绝缘层，源漏极、和第一钝化层；所述阵列基板满足以下条件的至少之一：(1)以下结构的至少之一在所述基板上的正投影未延伸至所述显示区：所述有机膜层、所述栅绝缘层以及所述第一钝化层；(2)所述栅绝缘层、所述第一钝化层中的至少之一满足：消光系数小于0.005。由此，本发明通过移

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113113431 A (43)申请公布日 2021.07.13 (21)申请号 202110392470.7 H01L 21/28 (2006.01)

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