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2023-06-14 发布于四川
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掩膜版及掩膜版的制作方法.pdf

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本申请实施例提供的掩膜版及掩膜版的制作方法，涉及显示技术领域，像素开口区与掩膜条框架形成的闭合区域重合，如此设置，可以使得像素开口区完全填充整个闭合区域。如此不必在掩膜条中预先制作特定形状的像素开口区，在像素排布及像素密度不变而面板开口形状改变时，只需要改变掩膜版本体上面板开口的形状即可，不需要对掩膜条中的像素开口区重新设计，改变掩膜版本体上的面板开口的形状相对于重新设计掩膜条中的像素开口区更加简单，制作成本也会更低，如此可以降低OLED面板的研发成本。同时，像素开口区完全填充整个闭合区域还可以

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113106388 A (43)申请公布日 2021.07.13 (21)申请号 202110399514.9 (22)申请日 2021.04.14 (71)申请人昆山

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