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本发明提供一种焊盘结构及其制备方法和半导体器件,所述焊盘结构包括底部金属层,包括若干分离的导电区;中部金属层,形成于所述底部金属层上,所述中部金属层与所述底部金属层之间通过中间导电通孔连接;顶部金属层,形成于所述中部金属层上,所述中部金属层与所述顶部金属层之间通过顶部导电通孔连接;顶部绝缘层,设置于所述顶部金属层上,所述顶部绝缘层内开设有显露出所述顶部金属层的上表面的焊盘开口;其中,所述顶部金属层的面积大于所述中部金属层的面积,所述焊盘开口于所述中部金属层所在平面上的投影包围所述中部金属层。本发
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113130427 A
(43)申请公布日 2021.07.16
(21)申请号 201911406374.2 H01L 23/48 (2006.01)
(22)申请日 2
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