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一种用于被设置成在衬底上执行沉积工艺的衬底处理系统的衬底支撑件包含:基座,其具有被设置成支撑衬底的上表面;以及N个加热层,其中所述N个加热层在所述基座内在所述上表面下方竖直堆叠。所述N个加热层中的每一者包含各自的电阻加热元件。在所述N个加热层中的至少一者中的所述电阻加热元件的瓦特密度在所述衬底支撑件的至少一径向区中相对于所述衬底支撑件的其他径向区而变化。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113169109 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 201980079164.9 (74)专利代理机构 上海胜康律师事务所 31263
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