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一种可用于特种工况下的平面测量系统,涉及测量技术领域。包括计算机、固定在机械设备上的二维平面、安装在机械设备运动部件内的速度计、高倍放大显微镜,二维平面与运动部件的运动位移平面平行,高倍放大显微镜的镜头垂直朝向二维平面,且与二维平面保持在聚焦距离,二维平面上铺设有一层随机分布的点光源,计算机分别与高倍放大显微镜和速度计连接;其特征在于:所述高倍放大显微镜采用反射式显微镜或参量非线性式显微镜。本发明提供了反射式和参量非线性式显微镜构型的平面测量系统,不仅可以发挥原平面测量系统的优势,而且可以更加有
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113137926 B
(45)授权公告日 2023.04.07
(21)申请号 202110488937.8 (56)对比文件
(22)申请日 2021.05.06
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