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本发明实施例公开了一种套刻设备的误差补偿方法、装置、设备及介质,所述套刻设备的工作台上分布有温控单元,所述方法包括:在执行套刻操作时,根据套刻点的初始套刻误差、套刻点函数以及所述温控单元的灵敏度参数,确定所述温控单元的温度调整量;基于所述温度调整量,调整所述温控单元的温度值,以补偿所述套刻操作的套刻误差。本发明实施例的方案能够简单且低成本的降低因高阶畸变造成的套刻误差,为补偿套刻设备的套刻误差提供了一种新思路。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113126442 B
(45)授权公告日 2022.06.28
(21)申请号 201911419224.5 (56)对比文件
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