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本发明的化学沉积统主要具有一槽体,该槽体内容置有一化学镀液,可供一加工物置入进行化学沉积;其中,该槽体的内壁为导电材料,另具有一牺牲阴极以及一电源,该牺牲阴极浸置于该化学镀液,而该电源的一正极连接于该内壁,该电源的一负极则连接于该牺牲阴极,利用该电源通电让化学镀液内的金属离子可沉积于该牺牲阴极表面,而不会沉积于该内壁,以减少化学沉积槽体的保养频率,以及减少沉积在内壁上的物质脱落而沾附到加工物,以提升化学沉积的良率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113136573 A
(43)申请公布日
2021.07.20
(21)申请号 20201
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