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2023-06-15 发布于四川
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一种用于无掩膜曝光的投影模组.pdf

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本发明公开了一种用于无掩膜曝光的投影模组，包括前透镜组、光阑以及后透镜组，光阑位于前透镜组及后透镜组之间，前透镜组包括依次设置的第一透镜，第一透镜为凸凹透镜；第二透镜，第二透镜为凸平透镜；第三透镜，第三透镜为凸凹透镜；第四透镜，第四透镜为平凸透镜；后透镜组包括依次设置的第五透镜，第五透镜为凹平透镜；第六透镜，第六透镜为凹凸透镜；第七透镜，第七透镜为凹凸透镜；第八透镜，第八透镜为凸平透镜。通过上述设计，本发明用于无掩膜曝光的投影模组能够实现370nm‑410nm范围内的消色差成像，成像效果好，透过

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113156776 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 202110463405.9 (22)申请日 2021.04.28 (71)申请人苏州赛源光学科技有限公司

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