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本发明公开了一种卷对卷铜箔压膜装置,干膜卷在即将与扩压辊轮接触前需要经过EPC纠偏结构并且时刻保持在活动贴合的状态,干膜卷到扩压辊轮的距离为铜箔卷到扩压辊轮的距离的1.5倍,干膜架轴的转动轴心和铜箔架轴的转动轴心均与外甩柱同步运动,该卷对卷铜箔压膜装置采用了EPC纠偏法,时刻监测干膜的运动传输状态,在其出现偏差的情况下及时进行调整,使干膜能够一直保持与铜箔始终处于同一垂直面上不偏移,提高对干膜的利用度,不会产生干膜浪费、板边缘干膜载切不良等问题,提升线路制作良率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113173449 A
(43)申请公布日 2021.07.27
(21)申请号 202110470799.0 B32B 37/10 (2006.01)
(22)申请日 2
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