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本发明实施例提供一种卡盘装置及半导体加工设备,该卡盘装置应用于半导体加工设备的工艺腔室中,其包括卡盘主体,该卡盘主体包括用于承载晶圆的承载面,且卡盘主体中设置有至少一条气体通道,该气体通道的第一通气端位于承载面上,气体通道的第二通气端位于卡盘主体的外周面,以实现承载面承载晶圆时,承载面与晶圆之间的间隙和工艺腔室内部相连通。本发明实施例提供的卡盘装置及半导体加工设备,可以兼容多种材质、形状不同的晶圆,从而可以扩大晶圆的适用范围。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113156781 B
(45)授权公告日 2023.04.14
(21)申请号 202110439253.9 (56)对比文件
(22)申请日 2021.04.23
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