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一种离子源，包括：电弧室壳体限定的电弧室；第一掺杂剂源，被配置为在第一操作模式下向电弧室供应第一掺杂剂材料；第一电子源，被配置为在第一操作模式下电离第一掺杂剂材料；第二掺杂剂源，其被配置为在第二操作模式下向电弧室供应第二掺杂剂材料；第二电子源，其被配置为在第二操作模式下使第二掺杂剂材料电离，其中离子源在第一操作模式下提供第一掺杂剂材料的离子，并在第二操作模式下提供第二掺杂剂材料的离子；所述第一电子源被配置为在所述第一操作模式下在相对较低的温度下电离所述第一掺杂剂材料，并且其中，所述第二电子源被配
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113178371 A
(43)申请公布日 2021.07.27
(21)申请号 202110366673.9
(22)申请日 2021.04.06
(71)申请人 江苏集创原子团簇科技研究院有限
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