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在本发明提供的一种TEM样品的制备方法，包括：提供一晶圆，所述晶圆上形成有低密度的层间电介质层；截取所述晶圆获得待测样品；在所述待测样品上形成保护膜，以对所述待测样品产生初步的完整性保护；在所述待测样品的目标区域覆盖胶类材料，并对其进行固化工艺，以进一步保护所述待测样品的形貌；在聚焦离子束内进行待测样品减薄；以形成TEM样品。通过上述方法制备TEM样品，替代用电子束辅助沉积方法在待测样品表面做保护层的方式，避免电子束对待测样品的直接辐照，有效改善电子束的大电流对待测样品带来的直接损伤，避免待测样
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113189370 A
(43)申请公布日 2021.07.30
(21)申请号 202110593171.X
(22)申请日 2021.05.28
(71)申请人 上海华力微电子有限公司
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