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本发明公开了一种垂直腔面发射激光器光源,包括:衬底;发光器件,设置在所述衬底上,用于发射出激光光束,所述激光光束方向垂直于所述衬底;图形结构制备层,设置在所述发光器件上,用于偏转所述激光光束的角度,通过在光源的发光器件上设置图形结构制备层,偏转激光光束的角度来实现扩大光束的控制角度,从而扩大光束的覆盖范围,增大光束控制角度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113178777 A
(43)申请公布日 2021.07.27
(21)申请号 202110450930.7
(22)申请日 2021.04.25
(71)申请人 中国科学院半导体研究所
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