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本发明公开了一种高纯氧化铝陶瓷基板及其制备工艺,所述陶瓷基板采用经特别提纯的超细α‑氧化铝粉为主相材料,镁铝尖晶石粉体为助熔剂,氧化镧及氧化钇为添加剂;氧化铝粉的要求:Al2O3的纯度≥99.9%,SiO2的含量<0.05%,Fe2O3的含量<0.02%,Na2O的含量<0.02%;ɑ‑Al2O3的转化率≥96%;电导率<100µs/cm。2.本发明之高纯氧化铝陶瓷基板制备工艺所制备的陶瓷基板,体积密度≥3.92g/cm3,体积电阻率≧10145Ω·cm,热导率>2930W/(m·K),介电常数
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113213894 A
(43)申请公布日 2021.08.06
(21)申请号 202110553843.4
(22)申请日 2021.05.20
(71)申请人 郑州
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