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研磨系统及研磨方法.pdfVIP

研磨系统及研磨方法.pdf

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    本发明提供了一种研磨系统和研磨方法。所述研磨系统包括研磨装置和清洗液供给装置，所述研磨装置具有研磨垫，所述清洗液供给装置用于提供清洗研磨垫的清洗液；其中，清洗液供给装置包括加热控制单元，所述加热控制单元用于调控清洗液的温度，使得注入到研磨垫上的清洗液的温度在高于室温的设定温度范围内。利用该清洗液供给装置提供的高于室温的清洗液清洗研磨垫，可以有效去除研磨垫表面的残留物，有助于提高清洁效果和研磨质量。所述研磨方法采用上述的研磨系统，在清洗前将清洗液的温度调控到高于室温的设定温度范围内，可以有效去除研

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113199393 A (43)申请公布日 2021.08.03 (21)申请号 202110536151.9 (22)申请日 2021.05.17 (71)申请人 广州

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