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本发明的课题是提供适合作为能够形成兼具良好的EUV抗蚀剂密合性、和由于氟系蚀刻速率也高因此具有的良好的蚀刻加工性的含有Si的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其包含例如式(E1)所示的聚合物、和溶剂。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113227214 A
(43)申请公布日 2021.08.06
(21)申请号 201980086354.3 (74)专利代理机构 北京市中咨律师事务所
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