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本发明涉及一种显示器件及其制备方法,包括以下步骤:提供基板,并在基板上依次形成阴极材料层和第一电子传输材料层;对阴极材料层和第一电子传输材料层进行图案化,形成阴极层和第一电子传输层;在基板上形成像素限定层,形成以像素限定层为侧壁、第一电子传输层为底的像素坑;通过溶液法在像素坑内形成覆盖第一电子传输层的第二电子传输层;在像素坑内形成发光层、阳极层,得到显示器件。本发明的制备方法既可以保证Ag等金属作为阴极层时可以直接与电子传输层接触,实现较好的器件性能,同时在图案化以及形成像素限定层的制程中能防止
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113224253 B
(45)授权公告日 2022.07.12
(21)申请号 202010534359.2 H01L 51/50 (2006.01)
(22)申请日 2020.06
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