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本发明揭示了一种研磨抛光驱动系统,包括:本体、上盘、第一旋转装置、第二旋转装置、直线驱动装置、下盘;第一旋转装置驱动上盘旋转,直线驱动装置驱动上盘垂直移动;第二旋转装置驱动下盘旋转;上盘设在下盘上方并相对设置;第一旋转装置和所述直线驱动装置安装在上盘上方,第二旋转装置安装在下盘下方。本发明提出的高精度研磨抛光驱动系统驱动系统,通过将上盘的所有动力源都设计在上盘的上端,简化了结构的同时使上盘在研磨抛光时的平稳定高,加工的研磨产品精度得到提高。同时这一设计降低了对长盘轴轴径的直线度、同心度以及刚度的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113211300 A
(43)申请公布日 2021.08.06
(21)申请号 202110696150.0 B24B 47/12 (2006.01)
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