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阵列基板制造方法及显示面板制造方法.pdfVIP

阵列基板制造方法及显示面板制造方法.pdf

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    本申请涉及显示面板制造技术，公开了阵列基板制造方法及显示面板制造方法，阵列基板制造方法包括：在基板上沉积遮光层、缓冲层、第一金属层和欧姆接触层；进行第一次光罩制程，形成遮光层图案、缓冲层图案、第一金属层图案和欧姆接触层图案；在经过第一次光罩制程后的基板上沉积有源层、绝缘层和第二金属层；进行第二次光罩制程，形成有源层图案、绝缘层图案和第二金属层图案；在经过第二次光罩制程后的基板上沉积钝化层；进行第三次光罩制程，形成第一导电过孔，第二导电过孔和第三导电过孔以及氧化铟锡层图案。显示面板制造方法，采用了

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113206038 B (45)授权公告日 2022.04.01 (21)申请号 202110487442.3 (51)Int.Cl.

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