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本发明提供一种低活化难熔中熵合金及其制备方法，按照原子比表示为TiaVbHfcTad，其中2.5≤a≤5、0.5≤b≤2.5、2≤c≤3、2≤d≤3，并且满足a+b+c+d＝10，由以下方法制备而成：(1)按照上述比例选取纯Ti、纯V、纯Hf和纯Ta原料，经熔炼浇注或吸铸成铸件或所需铸锭；(2)轧制；(3)铸件或轧制件热处理。本发明制备方的熵合金同时具有较高的强度和优异的塑韧性以及低活化的特性，通过适当调整合金的V含量来进行固溶强化，可以获得从900MPa到1500MPa不同等级的拉伸强度，以及
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113234986 B
(45)授权公告日 2022.04.12
(21)申请号 202110618583.4 TW I693290 B,2020.05
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