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获取掩膜版最优物平面方法和光学邻近修正方法及掩膜版.pdfVIP

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    一种掩膜版、获取掩膜版最优物平面的方法以及光学邻近修正的方法，获取最优物平面的方法包括：提供掩膜版信息，掩膜版信息包括若干物平面信息和掩膜版图形，掩膜版图形包括：主图形区和位于主图形区之间的辅助图形区；在第一区设置第一辅助图形；在第二区设置第二辅助图形；在第三区设置若干第三辅助图形；对掩膜版图形进行模拟曝光获取曝光图形，包括：第一曝光图形、第二曝光图形和第三曝光图形；通过第一曝光图形、第二曝光图形和第三曝光图形获取平均偏移量；获取物平面信息与曝光偏移量的关系模型；采用物平面信息与曝光偏移量的关系

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113219784 A (43)申请公布日 2021.08.06 (21)申请号 20201

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