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本发明提供能够形成低电阻膜的技术。具有将第1工序、第2工序和第3工序依次重复的工序：第1工序，其具有第1处理，该第1处理中，与含金属气体的供给并行地，向处理室内的衬底供给含硅及氢且不含卤素的还原气体；第2工序，其具有第2处理和第3处理，该第2处理中，停止含金属气体的供给，维持还原气体的供给，该第3处理中，停止还原气体的供给，并且向处理室内供给非活性气体，维持与第2处理的压力同等的压力或调节为与第2处理的压力不同的压力；和第3工序，向衬底供给含氮气体。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113227450 A
(43)申请公布日 2021.08.06
(21)申请号 202080007011.6 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所
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