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本发明公开有机过渡金属化合物及制备方法、形成含过渡金属薄膜的方法。所述有机过渡金属化合物的结构式选自如下所示中的一种:。低价过渡金属与蒎烯进行碳‑碳键氧化加成而得到螯合的有机过渡金属化合物。将有机过渡金属金属配合物用作金属前体,通过研究它的原子沉积过程,证明它很好的遵循了理想的原子层沉积生长,以沉积出纯度高,表面平整的含过渡金属薄膜。并进一步证明在此原子层沉积工艺中,可以将含过渡金属薄膜保形地沉积在深宽的沟槽中,这表明这些方法非常适合于复杂的或多孔三维纳米立体结构基底上,均匀和保形性好地沉积得到
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113201029 B
(45)授权公告日 2022.07.29
(21)申请号 202110440700.2 C23C 16/18 (2006.01)
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