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本发明涉及一种TOKI设备坩埚清洗再生剂及其制备方法，解决在洗净再生过程中存在有机物无法清除干净而影响产品品质的技术难题。TOKI设备坩埚清洗再生剂由15~25份表面活性剂、30~50份水、4~6份洗涤助剂、7~9份络合剂、4~6份缓冲剂、5~7份分散剂、5~7份阻燃剂组成；将摩尔比为2~5的正十二醇和溴化亚砜溶于石油醚，再催化剂条件下边加热，边用真空泵将废气抽入碱水中，得到正十二烷基溴；将正十二烷基溴和三甲胺在有机溶剂封闭条件下加热反应，得到正十二烷基三甲基溴化铵；然后将正十二烷基三甲基溴化铵
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113234543 A
(43)申请公布日 2021.08.10
(21)申请号 202110494236.5
(22)申请日 2021.05.07
(71)申请人
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