一种基于射频磁控溅射的锆钛酸钡薄膜退火方法.pdfVIP

一种基于射频磁控溅射的锆钛酸钡薄膜退火方法.pdf

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本发明公开了一种基于射频磁控溅射的锆钛酸钡薄膜退火方法,属于锆钛酸钡制备技术领域,以钛酸锶为基体,溅射钌酸锶材料作为衬底,利用磁控溅射技术将其溅射到基体表面,然后利用锆钛酸钡靶材溅射锆钛酸钡材料镀在表面,其中锆钛酸钡靶材中锆含量为20mol.%。钌酸锶电极沉积的过程中,采用混合气氛溅射得到薄膜,锆钛酸钡薄膜沉积的过程中,采用混合气氛溅射,得到膜厚为280nm,溅射结束后,对样品进行保温处理,之后取出部分样品进行退火处理;本申请通过退火工艺有效增强了锆钛酸钡薄膜衍射峰的强度,改善锆钛酸钡薄膜的结晶

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113215549 A (43)申请公布日 2021.08.06 (21)申请号 202110498532.2 C23C 14/46 (2006.01) (22)申请日 2

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