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本发明提供一种阵列基板的制作方法及阵列基板，制作方法包括：提供阵列基板，所述阵列基板包括设置在衬底基板上的扫描线和数据线，所述扫描线和所述数据线交叉设置并限定出多个像素区；沉积透明导电薄膜形成透明导电薄膜，在所述透明导电薄膜上涂布光刻胶并进行曝光、显影和检查；通过光刻工艺去除所述待加工区域的光刻胶和透明导电薄膜，所述待加工区域位于所述像素区的边缘；对除所述待加工区域外的所述透明导电薄膜进行刻蚀，形成分别位于所述像素区内且互不连通的多个像素电极。本发明提供一种阵列基板的制作方法及阵列基板，可以有效
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113270365 A
(43)申请公布日 2021.08.17
(21)申请号 202110536901.2
(22)申请日 2021.05.17
(71)申请人 京东方科技集团股份有限公司
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