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本发明适用于光纤激光器技术领域,提供一种等离子体剥除光纤涂覆层的方法和系统,本发明将带涂覆层的光纤置于充满低温等离子体的反应管内,等离子体的电子与活性基团与光纤涂覆层材料发生反应,解析为新的气相物质而脱离表面,最后将气相物质排出即可,实现光纤涂覆层超高洁净度剥除,且不会对光纤表面造成损伤;另外,低温等离子体温度接近室温,不会对光纤造成热损伤或改变光纤波导结构;此外,等离子体均匀存储于腔室中,通过磁场驱动方式可使等离子体能够快速在反应管中均匀分布,从而实现更均匀、更高效地与石英光纤涂覆层反应,保证
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113253388 B
(45)授权公告日 2021.09.10
(21)申请号 202110783616.0 (51)Int.Cl.
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