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本发明公开的是真空镀膜技术领域和激光惯性约束聚变靶制备技术领域的一种溅射内镀黑腔及其制备方法，所述内镀黑腔，包括套筒和设置在套筒内壁上的镀层，所述镀层采用溅射方式将金属沉积在套筒内壁上。用该方法制备的黑腔镀层，其壁厚均匀性可控、与套筒结合力好。与传统黑腔相比，本申请的方法不需要腐蚀去除芯轴，避免了腐蚀过程对黑腔的影响；套筒上预置微孔结构，避免了黑腔层加工微孔结构对黑腔的损伤；溅射内镀黑腔层与套筒之间结合紧密有利于套筒黑腔导热和温度场调控；套筒和黑腔一体改善了黑腔的力学性能，降低了装配难度；本发明
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113249694 B
(45)授权公告日 2022.03.15
(21)申请号 202110517710.1 C23C 14/58 (2006.01)
(22)申请
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