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本发明提供一种多路多控式抽真空系统设备及抽真空方法，该设备包括本体、多个腔室、主管道、抽真空装置、多个分管道、多个控制阀门、多个万向抽气头及多个驱动机构，其中，多个驱动机构分别连接于不同的万向抽气头以改变万向抽气头的抽气方向，一个腔室内可设置至少一个万向抽气头，且各个万向抽气头可分别控制。本发明的抽真空方法在抽真空过程中可根据腔室内气体的不均匀度或沉积薄膜的不均匀度来调节腔室内万向抽气头的抽气速度及抽气方向，提高腔室内残留气体的分布均匀性或镀膜工艺反应时腔室内等离子体的分布均匀性，最终提高所镀膜
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113249708 B
(45)授权公告日 2021.09.28
(21)申请号 202110730958.6 C23C 16/455 (2006.01)
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