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本发明实施例提供一种陶瓷件清洗方法，包括：第一清洗过程，采用化学溶液溶解陶瓷件上的颗粒；第二清洗过程，采用指定酸性溶液软化腐蚀陶瓷件上的颗粒以及消弭陶瓷件上的损伤层；第三清洗过程，采用超声波清洗的方式清洗陶瓷件，以去除陶瓷件上残留的颗粒和溶液。本发明实施例提供的陶瓷件清洗方法，可以有效去除陶瓷件上的悬浮颗粒和损伤层，从而可以解决陶瓷颗粒数量超标的问题，提高芯片良率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113245279 A
(43)申请公布日 2021.08.13
(21)申请号 202110553437.8
(22)申请日 2021.05.20
(71)申请人 北京
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