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本发明涉及测量方法、曝光方法、物品的制造方法及存储介质。测量方法对形成于应转印原版图案的基板上的拍摄区域的多个测量标记进行测量,具有:针对至少1个基板,基于执行对形成于基板上的拍摄区域的多个测量标记中第1数量的测量标记进行测量的第1测量模式而得的第1数量测量标记的测量值,计算与拍摄区域的位置相关的第1位置信息;在设为测量比第1数量少的第2数量的测量标记时,基于第1位置信息针对计算与拍摄区域位置相关的位置信息的多个模型,预测第2位置信息;根据第2位置信息求出评价多个模型的各模型的多个第1评价值;基
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113267966 A
(43)申请公布日 2021.08.17
(21)申请号 202110176658.8
(22)申请日 2021.02.07
(30)优先权数据
2020-0236
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