一种提高低温陷阱数量的青色力致发光材料及其制备方法和应用.pdfVIP

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2023-06-17 发布于四川
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一种提高低温陷阱数量的青色力致发光材料及其制备方法和应用.pdf

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本发明提供了一种提高低温陷阱数量的青色力致发光材料，属于材料损伤检测技术领域，其化学通式为Ba(1‑X)Si(2‑Y)O2N2:Eu2+(X)Ga3+(Y)，其中，X的取值范围为：0.001≤X≤0.25，Y的取值范围为：0.0001≤Y≤0.1；其陷阱分布范围为‑270℃至400℃。本发明还提供了上述青色力致发光材料的制备方法和应用。本发明的青色力致发光材料存在‑270℃至400℃连续分布的陷阱能级，特别是‑270℃至‑70℃的陷阱能级，使用Eu2+作为光吸收中心，吸收可见光后将能量存储于电子

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113249126 A (43)申请公布日 2021.08.13 (21)申请号 202110549818.9 (22)申请日 2021.05.20 (71)申请人中国科学院长春光学精密机械与物

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