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2023-06-17 发布于四川
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一种薄膜沉积装置和薄膜沉积方法.pdf

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本发明公开了一种薄膜沉积装置和薄膜沉积方法，其中一种薄膜沉积装置包括：反应腔室、承载座，所述承载座设置于反应腔室中，用于承载基板；所述反应腔室上部设有第一进气口，反应腔室下部设有第二气体进气口和泵抽气口，所述反应腔室内的两侧设有环形侧壁，所述反应腔室内还设有分隔板和第二气体出气环；本发明提供的一种薄膜沉积装置，可与薄膜沉积工艺同步进行，减少清洗时间提高产能，并改善腔体及薄膜颗粒度；本发明提供的薄膜沉积方法，通过腔体侧壁形成气环降低腔体侧壁的温度，通过惰性气体稀释腔体底部的反应源浓度，防止薄膜累积

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113249707 A (43)申请公布日 2021.08.13 (21)申请号 202110428360.1 (22)申请日 2021.04.21 (71)申请人拓荆科技股份有限公司

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