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本公开提供了一种具有烘干机构的基站设备,包括:基座,基座具有腔体结构,基座上形成有基座进气部及基座出风部;以及,烘干机构,烘干机构设置在基座的腔体结构之内,烘干机构对经由基座进气部进入的气流进行加热,并将加热后的气流经由基座出风部输出。本公开还提供了一种表面清洁系统以及清洁设备的烘干处理控制方法。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113243845 B
(45)授权公告日 2022.08.12
(21)申请号 202110456057.2 F26B 21/00 (2006.01)
(22)申请日 2021.04
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