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提供一种从蚀刻设备清洁碎屑及污染物的方法。蚀刻设备包括一处理腔室、一射频功率源、在处理腔室内的一静电吸座、一吸座电极、以及连接至吸座电极的一直流功率源。清洁方法包括放置一基板在静电吸座的一表面上;施加一等离子体至基板,借此在基板的表面上产生一带正电的表面;施加一负电压或一射频脉冲至静电吸座,借此使来自静电吸座表面的碎屑粒子及/或污染物带负电,且导致碎屑粒子及/或污染物附接至带正电的基板表面;以及从蚀刻设备移除基板,借此将碎屑粒子及/或污染物从蚀刻设备移除。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113270307 A
(43)申请公布日 2021.08.17
(21)申请号 202110356628.5
(22)申请日 2021.04.01
(30)优先权数据
16/837,93
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