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一种具备公自转的主动射流抛光方法.pdf

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    本发明提供一种具备公自转的主动射流抛光方法，包括以下步骤：在抛光过程中，恒定压力的抛光液通过抛光工具头的偏心喷嘴，偏心喷嘴内抛光销在恒定压力流动的抛光液作用下，抛光液通过抛光销使其旋转起来实现自转；同时抛光工具头旋转带动偏心喷嘴内抛光销实现公转；抛光销的公转与自转，以及抛光液对抛光销轴向的压力共同作用下，实现对与抛光销接触的元件的材料去除。本发明的主动射流抛光方法需要抛光销不仅绕工具回转轴公转运动，同时绕其自身回转轴自转，实现了抛光接触区中心去除量大、边缘平缓过度的更理想的去除函数形状、同时对其

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113245956 B (45)授权公告日 2022.08.02 (21)申请号 202110654276.1 (56)对比文件

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