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本发明公开一种用于制备大尺寸C/C复合材料的CVD沉积炉装置，包括炉体，炉体内部固定设置有分流板，分流板将炉体内部分为混气室和沉积室，沉积室设置在混气室上方；进气组件包括进气嘴，进气嘴包括固定板以及固定设置在固定板一侧的若干组螺旋片，相邻两组螺旋片之间设置有螺旋通道，固定板的中部开设有进气口，进气口连接有进气管，进气口与螺旋通道连通。本发明通过螺旋状结构的进气嘴对工艺气体进行气体扰动，提高扩散到混气室工艺气体的均匀性，提高后期扩散到沉积室的均匀性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113265646 A
(43)申请公布日 2021.08.17
(21)申请号 202110665848.6
(22)申请日 2021.06.16
(71)申请人 中南大学
地址 41
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