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用于光刻过程的优化的方法.pdfVIP

用于光刻过程的优化的方法.pdf

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    一种用于改善光刻过程的成品率的方法，所述方法包括：确定整个衬底的性能参数的参数指纹，所述参数指纹包括与所述性能参数的不确定性相关的信息；确定整个所述衬底的性能参数的过程窗口指纹，过程窗口与所述性能参数的可允许范围相关联；以及确定与所述性能参数在可允许范围之外的概率相关联的概率度量。可选地，基于所述概率度量来确定对所述光刻过程的校正。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113253578 A (43)申请公布日 2021.08.13 (21)申请号 202110601260.4 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任

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    知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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