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微光刻投射曝光设备具有反射镜阵列，反射镜阵列具有基体和多个反射镜单元，每个反射镜单元包括反射镜和固态关节，固态关节至少具有一个关节部件，该至少一个关节部件将反射镜连接到基体。控制装置使得可以改变各反射镜相对于基体的排列。反射镜与基体或连接到基体的反射镜支撑体的相对表面被设计为滑动支撑的相应滑动表面。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113253576 A
(43)申请公布日 2021.08.13
(21)申请号 202110456569.9 (51)Int.Cl.
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