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本发明提供一种等离子体处理装置和构件温度判定方法,高精度地判定处理容器内的构件的温度是否饱和。等离子体处理装置具有处理容器和电极,该等离子体处理装置还具有:预处理部,其构成为执行使等离子体点火来使处理容器内的构件的温度上升的预处理;功率施加部,其构成为在执行预处理后,以不使等离子体点火的方式向电极施加RF功率;测定部,其构成为测定与通过功率施加部施加的RF功率有关的物理量;以及判定部,其构成为基于通过测定部测定出的与RF功率有关的物理量,来判定处理容器内的构件的温度是否饱和。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113299530 A
(43)申请公布日 2021.08.24
(21)申请号 202110172174.6
(22)申请日 2021.02.08
(30)优先权数据
2020-0282
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