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本发明提供一种晶圆ETCH制程设备静电吸盘的洗净再生方法,包括:步骤一,对静电吸盘的阳极氧化铝底座表面处理;步骤二,对静电吸盘的阳极氧化铝底座表面保护;步骤三,有机溶剂浸泡静电吸盘;步骤四,对静电吸盘的氧化铝陶瓷面打磨;步骤五,双氧水浸泡静电吸盘;步骤六,再对静电吸盘的氧化铝陶瓷面打磨;步骤七,热水浸泡静电吸盘;步骤八,氨水双氧水浸泡静电吸盘;步骤九,继续对静电吸盘的氧化铝陶瓷面打磨;步骤十,用硝氟酸溶液擦拭静电吸盘的氧化铝陶瓷面;步骤十一,再用盐酸双氧水溶液擦拭静电吸盘的氧化铝陶瓷面;步骤十二
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113299532 A
(43)申请公布日 2021.08.24
(21)申请号 202110498080.8
(22)申请日 2021.05.08
(71)申请人 上海
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