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本申请公开了一种CMP工艺中的监测方法以及监控系统,所述监测方法包括:提供具有第一图形的第一光罩;所述第一图形具有预设的第一图形尺寸参数;基于所述第一光罩,对晶圆的一个表面进行刻蚀;所述晶圆具有刻蚀图形的表面为第一表面;在所述第一表面沉积金属层后,对所述第一表面进行多次CMP处理;完成最后一次CMP处理后,获取所述第一表面的第一形貌信息;确定所述第一形貌信息以及所述第一图形尺寸参数的关联关系。本申请技术方案只需要一片晶圆,仅需要在完成最后一次CMP处理后,获得第一表面的形貌信息,无需在不同工艺阶
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113314430 A
(43)申请公布日 2021.08.27
(21)申请号 202110006885.6
(22)申请日 2021.01.05
(71)申请人 长江存储科技有限责任公司
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