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一种硅基OLED微显示器件膜层去除工艺,属于硅基OLED微显示器件制备技术领域,该膜层去除工艺包括将待处理的晶圆上料并定位在作业平台上,并完成激光对位;启动激光系统,对目标膜层采用单点多次激光作业,去除目标膜层,同时对作业区域进行氮气吹扫;对激光去除膜层完成的晶圆进行湿法清洗作业;对清洗完成的晶圆进行烘烤作业;本发明的有益效果是,该膜层去除工艺简单,膜层去除效率高,可避免刻蚀不良及封装层损伤异常,提高了产品良率,同时降低了工艺成本。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113290316 A
(43)申请公布日 2021.08.24
(21)申请号 202110552095.8
(22)申请日 2021.05.20
(71)申请人 安徽
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