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本发明提供一种基于背向工艺的光栅耦合结构,通过在波导衍射光栅层上设置非金属结构反射镜层,极大地提高光栅的耦合效率,减小光栅‑光纤耦合损耗。反射镜层采用至少一个分布式布拉格反射镜结构或光栅反射镜结构,没有金属吸收的问题,更耐高温,与传统的光学器件更兼容而不会引起不必要的损耗,且不存在金属反射镜后段工艺污染问题;本发明还提供的一种基于背向工艺的光栅耦合结构的制备方法,采用标准晶圆为初始晶圆,单步刻蚀工艺简单,通过单次沉积刻蚀即可满足更大带宽的光耦合反射需求;在不影响原有架构的基础上,根据设计需求可灵
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113359236 A
(43)申请公布日 2021.09.07
(21)申请号 202110804838.6
(22)申请日 2021.07.16
(71)申请人 联合微电子中心有限责任公司
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