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本公开涉及光致抗蚀剂显影剂和制造半导体器件的方法。一种制造半导体器件的方法包括:在衬底上方形成光致抗蚀剂层;以及使所述光致抗蚀剂层选择性地暴露于光化辐射以形成潜在图案。所述潜在图案是通过将显影剂组合物施涂到所述选择性地暴露的光致抗蚀剂层以在所述光致抗蚀剂层中形成图案来显影的。所述显影剂组合物包括:汉森溶解度参数为18δd3、7δp1和7δh1的第一溶剂;酸解离常数pKa为‑11
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113341662 A
(43)申请公布日 2021.09.03
(21)申请号 202110558121.8
(22)申请日 2021.05.21
(30)优先权数据
63/028,51
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