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2023-06-21 发布于四川
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描述了一种成像系统，该系统包括：辐射源单元，其包括用于朝着传播的大致方向发射选定频率范围的电磁辐射的一个或更多个发射器；检测单元，其包括沿着从辐射源单元发射的电磁辐射的路径定位的一个或更多个检测器阵列；孔掩模单元，其定位于从辐射源单元朝着检测单元的辐射传播的光学路径中，提供相对于选定位置的待成像的样本的最小化因子M。孔掩模单元包括一组孔掩模，每个孔掩模携带针孔阵列，针孔阵列包括具有选定布置的预定数量的针孔。该组孔掩模的针孔相对于检测器单元的对准移位了最小化因子的一部分，以产生移位了几何分辨率的一

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113366343 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202080008334.7 (74)专利代理机构北京安信方达知识产权代理

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